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第841章 最后的战役二（第2页）

郑韩皱了皱眉。

然后叹了口气，“没办法，我们只能从零开始，联合长春光机、徕卡、华为等联合研发，现在搞定了DUV浸润式的物镜系统，至于EUV的，恐怕需要很长一段时间。”

“理论上是这样，但事实是现在全球智能机领域已经有‘性能过剩’的趋势，搭载5nm芯片的手机体验，未必就不如3nm，就会让3nm及以下工艺陷入一种尴尬的地步，飙升的成本却只得到微弱的性能提升。”

一个戴着玳瑁眼镜的领导担忧道：“光刻机这么极限使用，会不会影响到使用寿命？”

“哪里，哪里，领导。”

“比如呢？”

“5nm是不是就需要EUV光刻机了？”

陆飞笑道：“虽然5nm是目前我们的极限，理论上而言，台积电、英特尔、三星这些有EUV光刻机的，制程工艺甚至可以冲击到1nm，但得到的回报并不会太高。”

沙领导问道：“现在逻辑和华为的手机用的都是7nm制程工艺的芯片对吗？”

“不同的芯片不同的良率，但基本能稳定在70%，慢慢调试改进，可以达到80%。”

“喔？”

陆飞比比画画道：“完全可以比肩AMSL，只用4个光罩、4次曝光，就可以达到7nm制程工艺。”

“还有良率。”

“说说吧，到底是怎么搞出来的？”

“那这期间，复芯、中芯的晶圆代工，有没有可能会被台积电、英特尔的差距拉大？”

“是啊，经过这么多道曝光，任何一道工序失败，都可能满盘皆输，成本就上来了……”

“其实这并不是逻辑和中微两家的功劳，我们只负责整体的统筹调度和集成研发。”

“光刻机的技术难点主要集中在光源、反射镜、工作台，现在双工作台已经解决了，光源问题也突破了，就剩下物镜系统。”

不少领导感到奇怪，“为什么这么说？制程工艺难道不是越先进越好嘛？”

毕竟，如此国之重器出自张江技术园区，沪市毫无疑问当得上“华夏半导体之都”。

除了对功耗要求比较高的CPU、GPU、AI芯片外，其余的工业级芯片用的都是28nm以上的技术，比如电视、空调、汽车、高铁、火箭、卫星、工业机器人、电梯、医疗设备、智能手环、无人机……

但现在，7nm，甚至不计任何代价，极限可以推到5nm，简直是绰绰有余。

“你们在资金上、政策上、人才上，或者在其他方面，有没有什么需要我们解决的？”

沙领导慈眉善目。

陆飞也不客气，立马张口。

一个敢提，一个敢接。

“我还有个提议，希望领导们能支持。”

“说。”

“是这样，逻辑这些年一直跟水木大学开展了比较另类的秘密项目，那就是研究直接跳过光刻机，建立光刻厂和光刻车间。”

“光刻厂和光刻车间？！”

沙领导、郑韩等人或多或少感到惊讶。