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第47章 蒲伟才(第1页)

1月15日,星期六。

合痩市。

乘坐高铁的卫明,来到了这座城市。

为此他特意跟樊姐请了两天假,提前处理了三十多名结石病人,合计腾出了三天时间,就为了解决掉一个问题。

人才!

高端光刻机的研发人才。

而且卫明已经有了明确的招募目标,他认为的最合适最优秀的人才,就在合瘦市这边。

此人名叫蒲伟才。

卫明是在网上查找相关信息的过程中,看到了多条关于此人的新闻。

也注意到此人带领的研发团队,取得的跟光刻机相关的多项研究成果,明白了此人的牛叉之处。

因为这些天卫明也在大力学习一些跟光刻机相关的知识,了解到了euv光刻机的几大核心技术。

一个,组装。

光刻机最重要的技术之一是组装,就是把所有的元件组装起来,然后使分辨率达到最高,同时套刻精度达到最佳。

比如机器内部温度的变化要控制在千分之五度,得有合适的冷却方法,精准的测温传感器。一台光刻机中,包含十几个分系统,几万个机械件,数百个的传感器,每一个都要稳定。

二,控制。

光刻机是制造业内对精密性要求最高的产品。光刻的原理就像在米粒大小的面积上,雕刻纳米级大小的文字,对于误差的要求可想而知。

比如光刻机里有2个同步运动的工件台,一个载底片,一个载胶片。两者需始终同步,误差在2纳米以下。两个工作台由静到动,加速度跟导弹发射差不多。

三,光源。

制造euv需要极高的能量。euv能被空气吸收,所以光刻环节必须耗电保持真空环境。更夸张的是,euv还能被透镜吸收,所以只能用十几次面透镜,通过不断反射将光源集中。

每反射1次,euv的能量就会损失3成。十几次反射后,到达晶圆的光线理论上只剩下2。从能连赶上看,寒国某半导体企业曾经说过,极紫外光euv的能源转换效率只有002左右。

四、镜头。

光刻机的中心镜头对于镜头要求较高,位于光刻机中心的镜头,由20多块锅底大的镜片串联组成,需要高纯度透光以及高抛光。

目前,符合光刻机要求的镜片还无法靠机器制造,先进光刻机镜头全部由手工打磨而成,能够达到这一标准的公司并不多,全世界范围内也就一两家,全部是西方老牌公司。

而这四大类的核心技术中。

卫明了解到这位牛人蒲伟才跟他的技术团队,在短短的十年时间里,一共攻克了两项。

分别是双工台技术与光源技术。

他带领团队研发出的高精密双工台,控制精度也达到了2纳米,跟国外最先进水平,达到了同等先进的程度,抹平了技术差距,可以说是打成了平手。

而在光源技术方面,蒲伟才也是只用了短短几年时间,利用国内在激光技术领域的领先地位,以及材料方面的领先优势,开发出的euv光源系统,最终能源利用率达到了5。

较之于艾思迈euv光刻机的2,能源利用率提升了一倍还多!

这意味着光刻机在使用的过程中,能节省一半多的电,减少产生大量的热量,系统的稳定性能提高不少。

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