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第54章 近轴照明模式（第2页）

当场验证方程！

华光总工将目光投向了任维中，意在征求他的意见。

任维中：“好，按苏总工的想法办，咱们输入程序验证一下。”

任董发话了，工程师们便忙碌了起来，迅速调整好设备。

华光将苏晨编辑的方程，输入到光刻机对焦程序中。

！！！

奇迹出现了——

对焦系统中，入射光的复振幅、光束光场分布、图形弥散斑半径……所有的数据，竟然完全与苏晨编辑的方程逻辑相藕合！！

全场震惊！！

“难道……难道说近轴照明的衍射方程找到了？！”

“如此一来，入射光束和输出光束岂不都能实现强分布？”

“如果真能顺利采用近轴照明的话，那么相移掩模和光瞳滤波两种分辨力增强技术就成功在望了！”

……

这个关键的方程，直接为国产光刻机的突破打开一扇天窗，让在场的人看到了曙光。

华光总工看到这样的结果，难掩兴奋：

“真……真没想到……真的有表达近轴照明衍射规律的方程……苏……苏总工，你是怎么做到的？”

所有人都在关注苏晨。

此刻，在他们心目中，苏晨已经是个谜一样的天才！

苏晨：“其实，我也是自学的。”

所有人：？？？

任中光虽然不懂具体的技术，但，通过观察工程师们的神情，他就已经猜出：苏晨的理论应该是革命性的！他问华光总工：

“怎么样，用苏总工的理论突破1纳米工艺，有希望吗？”

华光总工：“任董，如果咱们真的掌握了近轴照明模式，那么，照明焦深将提升巨大，光刻分辨力也会大幅度提升，理论上是可以实现1纳米光刻工艺的！

只是，现在还存在一个问题，那就是——近轴照明所采用的衍射元件，整形后的光场分布受入射光场分布的影响较大，对输入光束稳定性不佳的系统，单衍射元件得到的整形光场结果同样会有较大不稳定性……恐怕无法满足光刻照明系统光瞳性能的要求。”

“这个问题有办法解决！”

苏晨清晰地说出了解决办法：“我们可以采用复眼均匀照明原理，来保证光刻照明系统的光瞳性能！”

所有人：“复眼均匀照明原理？！”

这是一个革命性的原理，在场的工程师几乎都没有想到！

“不错！”

苏晨解疑答惑：“所谓复眼均匀照明原理，就是采用微衍射光学元件阵列，将输入的激光光场进行切割，分割成一个个小的子光场，通过微衍射元件的相位调制可以得到固定的光场分布……经过迭代优化，其非均匀性也基本能够控制在5附近，设计理论衍射效率可达90左右，这样完全满足1纳米工艺光刻照明系统设计使用要求！！”

！！！

切割激光光场！！

相位调制微衍射元件！！

天才的构想——